近日，“筑基强国路——中国制造‘十四五’成就展”在中国国家博物馆开幕。展览以制造业智能化、绿色化、融合化以及产业基础高级化和产业链现代化为叙事主线，重点展示原材料、装备、消费品、电子信息等行业领域共300余件（套）展品。

浙江奥首材料科技有限公司（以下简称“奥首材料”）自主研制的四款产品——光刻胶清洗剂ISP800、光刻胶清洗剂ISP1100、低温固化光敏聚酰亚胺光刻胶和等离子切割保护材料，作为“高端制造”与“产业基础”板块的标志性成果精彩亮相，在国家级舞台上展现硬核实力。

这四款产品主要面向芯片、先进封装等国家当前重点发展的前沿领域。产品的研发应用有助于提升国内芯片制造的工艺水平、产品良率和长期可靠性，同时降低对羟胺等特定进口原材料依赖，进一步增强我国半导体产业链自主可控能力。奥首材料通过攻克配方设计、工艺兼容、平衡性能等一系列具体难题，在高端半导体材料领域建立起差异化的竞争优势。

此次入选展览，是对奥首材料坚持自主创新、全力突破“卡脖子”技术路径的高度认可。面向未来，奥首材料将继续以科技创新为驱动，紧密围绕产业发展前沿需求，持续攻坚下一代关键核心技术，助推中国半导体产业实现高质量发展。

（图片来源：衢州智造新城）